典型干涉儀配置
本頁主要介紹常用的干涉儀測(cè)量配置。
平面測(cè)量
平面測(cè)量裝置用于測(cè)量反射平面鏡、透鏡和窗片。被測(cè)物體必須放在專用夾具上以便于對(duì)被測(cè)面進(jìn)行傾斜調(diào)整，比如用ZYGO的兩維調(diào)整架和自中心夾具放置和調(diào)整樣品。
透射波陣面測(cè)量
此裝置用于測(cè)量透射平面波前畸變。 常用于對(duì)窗片、濾光片和透鏡等的測(cè)量。另外，也可用于檢測(cè)玻璃、透明材料的均勻性。測(cè)量光束通過被測(cè)樣品，只需要將樣品放在與光軸近似垂直的位置，不需要特殊的調(diào)整。
球面測(cè)量–凸面
此裝置用于凸面樣品的面形測(cè)量。選擇合適的球面標(biāo)準(zhǔn)鏡必須滿足如下條件：首先，被測(cè)凸球面的曲率半徑必需小于球面標(biāo)準(zhǔn)鏡的后焦距，其次，被測(cè)樣品的曲率半徑與通光孔徑的比值（R/number）必須小于等于球面標(biāo)準(zhǔn)鏡的F/number。三維調(diào)整架用來調(diào)節(jié)被測(cè)樣品。
球面測(cè)量–凹面
球面標(biāo)準(zhǔn)鏡用于將干涉儀輸出平面波變?yōu)榍蛎娌ǎ糜趯?duì)球面樣品和透鏡的測(cè)量。測(cè)量時(shí)，被測(cè)樣品凹面的曲面中心必須與球面標(biāo)準(zhǔn)鏡的焦點(diǎn)**重合，使用GPI?的快速獲得條紋系統(tǒng)可以只用幾秒的時(shí)間調(diào)整好樣品的位置。三維樣品調(diào)整架用于調(diào)節(jié)被測(cè)樣品。
透鏡/光學(xué)系統(tǒng)質(zhì)量測(cè)量
通過檢測(cè)透射波前畸變可以檢測(cè)透鏡和光學(xué)系統(tǒng)質(zhì)量，對(duì)于聚焦于無限遠(yuǎn)的透鏡系統(tǒng)，測(cè)量時(shí)與干涉儀位置如圖所示，需用一個(gè)高精度的凸球面或者凹球面將光束反射回干涉儀，通過轉(zhuǎn)動(dòng)被測(cè)透鏡光軸，波束角的變化可以被檢測(cè)。
透鏡/光學(xué)系統(tǒng)質(zhì)量測(cè)量–另一種方法
對(duì)于無限共軛的透鏡或者光學(xué)系統(tǒng)，尤其對(duì)于大于干涉儀測(cè)量光束直徑的透鏡系統(tǒng)，可以用這種方法檢測(cè)，如圖所示。此方法對(duì)于樣品的調(diào)整要求更高，可能會(huì)由于未準(zhǔn)確校準(zhǔn)而引入誤差。
